恩莱特科技硅光子规划东西引领半导体立异硅光子引爆工业热潮

  恩莱特科技日前参与集邦科技“半导体新篇章│摩尔定律后的技能立异与工业趋势”论坛。讲演中深化解析硅光子技能的中心概念、规划应战与未来开展。从硅光子芯片的根底组件规划，到精准光路布局，再到一起封装光学（CPO）等异质集成计划，结合实际事例与东西使用，展示硅光子技能怎么打破摩尔定律约束，完成更快、更省电的数据传输。现场与会者反响火热，会后沟通积极，凸显恩莱特科技在半导体立异的领导地位。

  在AI数据中心与高速通讯需求激增的推动下，硅光子技能成为后摩尔定律年代的解决计划。恩莱特科技的PIC Studio全流程规划渠道集成组件规划、光路布局与体系验证，将杂乱光子电路转化为可量产计划。结合台湾在制作与封装测验的身先士卒的优势，这套东西不只加快硅光子技能推动，更将催生硅光子生态系，相似相似电子集成电路（EIC）前史开展，为半导体工业注入新动能。

  PIC Studio一致规划渠道集成五大要害模块，为客户供给从组件、线路到体系层级的完好规划流程：

  恩莱特科技着重，PIC Studio全流程规划渠道不只是规划东西，更是工业立异的加快器，助力台湾在后摩尔定律年代站稳全球技能舞台。恩莱特总经理苏正宇表明：“看到现场宾客对硅光子技能的火热反应，让我们感受到硅光子工业的潜力。台湾具有切入此浪潮的绝佳条件，等待与工业同伴协作一起抢占硅光子商场！”

  （首图来历：恩莱特科技；首图图说：恩莱特科技共享硅光子技能的前瞻使用，帮忙客户在硅光子生态系中加快立异；数据源：恩莱特科技）